کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362251 | 1388282 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Application of the storing matter technique to the analysis of boron doped and implanted SiO2/Si
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Storing matter is a novel technique that avoids the matrix effect during SIMS analyses. ⺠Its efficacy is compared with traditional SIMS for a Boron-implanted silicon sample with native oxide at the surface. ⺠Improved intensity and concentration depth profiles are obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 10, 1 March 2012, Pages 4813-4818
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 10, 1 March 2012, Pages 4813-4818
نویسندگان
C. Mansilla, T. Wirtz,