کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5362251 1388282 2012 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Application of the storing matter technique to the analysis of boron doped and implanted SiO2/Si
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Application of the storing matter technique to the analysis of boron doped and implanted SiO2/Si
چکیده انگلیسی
► Storing matter is a novel technique that avoids the matrix effect during SIMS analyses. ► Its efficacy is compared with traditional SIMS for a Boron-implanted silicon sample with native oxide at the surface. ► Improved intensity and concentration depth profiles are obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 10, 1 March 2012, Pages 4813-4818
نویسندگان
, ,