کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362944 | 1388294 | 2011 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of RF power and sputtering pressure on the structural and optical properties of TiO2 thin films prepared by RF magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Preparation of nanocrystalline TiO2 thin films from a ceramic target by RF magnetron sputtering. ⺠The use of micro Raman spectroscopic analysis for the unambiguous presence of anatase and rutile phases in amorphous-like TiO2 films. ⺠Analysis of optical parameters of nanocrystalline films using the concept of quantum confinement effect. ⺠Study of PL spectra of pure TiO2 thin films and the effect of sputtering parameters on the PL spectra.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 24, 1 October 2011, Pages 10869-10875
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 24, 1 October 2011, Pages 10869-10875
نویسندگان
Prabitha B. Nair, V.B. Justinvictor, Georgi P. Daniel, K. Joy, V. Ramakrishnan, P.V. Thomas,