کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5362944 1388294 2011 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of RF power and sputtering pressure on the structural and optical properties of TiO2 thin films prepared by RF magnetron sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Effect of RF power and sputtering pressure on the structural and optical properties of TiO2 thin films prepared by RF magnetron sputtering
چکیده انگلیسی
► Preparation of nanocrystalline TiO2 thin films from a ceramic target by RF magnetron sputtering. ► The use of micro Raman spectroscopic analysis for the unambiguous presence of anatase and rutile phases in amorphous-like TiO2 films. ► Analysis of optical parameters of nanocrystalline films using the concept of quantum confinement effect. ► Study of PL spectra of pure TiO2 thin films and the effect of sputtering parameters on the PL spectra.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 24, 1 October 2011, Pages 10869-10875
نویسندگان
, , , , , ,