کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5364298 | 1388314 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nano- and micro-scale patterning of Si (1Â 0Â 0) under keV ion irradiation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Evolution of Si (1Â 0Â 0) surface under 100Â keV Ar+ ion irradiation at oblique incidence has been studied. The dynamics of surface erosion by ion beam is investigated using detailed analysis of atomic force microscopy (AFM) measurements. During an early stage of sputtering, formation of almost uniformly distributed nano-dots occurs on Si surface. However, the late stage morphology is characterized by self-organization of surface into a regular ripple pattern. Existing theories of ripple formation have been invoked to provide an insight into surface rippling.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 16, 15 June 2007, Pages 6824-6828
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 16, 15 June 2007, Pages 6824-6828
نویسندگان
Yashpal S. Katharria, Sandeep Kumar, A. Tarun Sharma, Dinakar Kanjilal,