کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5364343 | 1388315 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Carbon nitride films by RF plasma assisted PLD: Spectroscopic and electronic analysis
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
â¶ In this paper we studied the effect of RF plasma on a-CNx films deposition. â¶ Nitrogen plasma resulted in better thickness, quality and Nitrogen uptake of films. â¶ The OES evidenced a reactivity enhancement of Nitrogen molecules in the RF plasma. â¶ The electrical resistivity is higher, due to a greater number of C-N bond formation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 12, 1 April 2011, Pages 5175-5180
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 12, 1 April 2011, Pages 5175-5180
نویسندگان
E. Cappelli, S. Orlando, D.M. Trucchi, A. Bellucci, V. Valentini, A. Mezzi, S. Kaciulis,