کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5364343 1388315 2011 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Carbon nitride films by RF plasma assisted PLD: Spectroscopic and electronic analysis
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Carbon nitride films by RF plasma assisted PLD: Spectroscopic and electronic analysis
چکیده انگلیسی
▶ In this paper we studied the effect of RF plasma on a-CNx films deposition. ▶ Nitrogen plasma resulted in better thickness, quality and Nitrogen uptake of films. ▶ The OES evidenced a reactivity enhancement of Nitrogen molecules in the RF plasma. ▶ The electrical resistivity is higher, due to a greater number of C-N bond formation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 12, 1 April 2011, Pages 5175-5180
نویسندگان
, , , , , , ,