کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5365436 | 1388330 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Positron beam studies of cobalt silicides
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Silicide formation in Co/Si thin structures synthesized using thermal evaporation, sputter deposition and ion implantation, has been investigated using depth-resolved positron annihilation spectroscopy (PAS) together with other corroborative experimental techniques. S vs. Ep curves and S-W correlation plots have revealed important processes such as defect annealing, interdiffusion, silicide formation and recrystallization of amorphous Si. These studies have shown that there exist differences in the formation temperature of the silicide phases, the sequence of silicide phase formation and defect generation owing to the nature of the deposition methods employed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 1, 31 October 2008, Pages 237-240
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 1, 31 October 2008, Pages 237-240
نویسندگان
S. Abhaya, G. Amarendra,