کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5366713 | 1388353 | 2006 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
GaN nucleation on (0Â 0Â 0Â 1)-sapphire via ion-induced nitridation of gallium
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The growth of epitaxial GaN films on (0Â 0Â 0Â 1)-sapphire has been investigated using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and low energy electron diffraction (LEED). In order to investigate the mechanism of the growth in detail, we have focused on the nitridation of pre-deposited Ga layers (droplets) using ion beam-assisted molecular beam epitaxy (IBA-MBE). Comparative analysis of XPS core-level spectra and LEED patterns reveals, that nitride films nucleate as epitaxial GaN islands. The wetting of the surface by GaN proceeds via reactive spreading of metallic Ga, supplied from the droplets. The discussed growth model confirms, that excess of metallic Ga is beneficial for GaN nucleation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 21, 31 August 2006, Pages 7671-7677
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 21, 31 August 2006, Pages 7671-7677
نویسندگان
A. Sidorenko, H. Peisert, H. Neumann, T. Chassé,