کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5367279 | 1388364 | 2009 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Assessing the antimicrobial activity of zinc oxide thin films using disk diffusion and biofilm reactor
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The electronic and chemical properties of semiconductor materials may be useful in preventing growth of microorganisms. In this article, in vitro methods for assessing microbial growth on semiconductor materials will be presented. The structural and biological properties of silicon wafers coated with zinc oxide thin films were evaluated using atomic force microscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, and MTT viability assay. The antimicrobial properties of zinc oxide thin films were established using disk diffusion and CDC Biofilm Reactor studies. Our results suggest that zinc oxide and other semiconductor materials may play a leading role in providing antimicrobial functionality to the next-generation medical devices.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 11, 15 March 2009, Pages 5806-5811
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 11, 15 March 2009, Pages 5806-5811
نویسندگان
Shaun D. Gittard, John R. Perfect, Nancy A. Monteiro-Riviere, Wei Wei, Chunming Jin, Roger J. Narayan,