کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5368809 1388410 2006 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sputter yields in diamond bombarded by ultra low energy ions
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Sputter yields in diamond bombarded by ultra low energy ions
چکیده انگلیسی
This is both problematic and beneficial for SIMS analysis. Oxygen can be used to reach buried structures in diamond efficiently, and the effects of the near-normal incidence beam are planarizing as they are in silicon. Conversely, since positive ion yields are low, alternative probes or strategies must be found for high sensitivity profiling of electropositive elements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 19, 30 July 2006, Pages 6444-6447
نویسندگان
, , ,