کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5369265 | 1388425 | 2006 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth and characterization of β-SiC films obtained by fs laser ablation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We achieved the growth of cubic silicon carbide (SiC) films on (1 0 0)Si substrates by pulsed laser deposition (PLD) at moderate temperatures such as 750 °C, from a SiC target in vacuum. The as-deposited films are morphologically and structurally characterized by scanning electron microscopy (SEM), conventional and high-resolution transmission electron microscopy (TEM/HRTEM). The morphology of deposited films is dominated by columns nucleated from a thin nanostructured beta silicon carbide (β-SiC) interface layer. The combined effects of columnar growth, tilted facets of the emerging columns and the presence of particulates on the film surface, lead to a rather rough surface of the films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 13, 30 April 2006, Pages 4672-4677
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 13, 30 April 2006, Pages 4672-4677
نویسندگان
C. Ghica, C. Ristoscu, G. Socol, D. Brodoceanu, L.C. Nistor, I.N. Mihailescu, A. Klini, C. Fotakis,