کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5421337 | 1507878 | 2016 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Chemically selective formation of Si-O-Al on SiGe(110) and (001) for ALD nucleation using H2O2(g)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 652, October 2016, Pages 322-333
Journal: Surface Science - Volume 652, October 2016, Pages 322-333
نویسندگان
Sang Wook Park, Hyonwoong Kim, Evgueni Chagarov, Shariq Siddiqui, Bhagawan Sahu, Naomi Yoshida, Jessica Kachian, Randall Feenstra, Andrew C. Kummel,