کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
542279 | 1450487 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
X-ray diffraction studies of electrostatic sprayed SnO2:F films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Fluorine-doped tin oxide films were deposited by electrostatic spray pyrolysis technique (ESP), on 1 cm×1 cm Corning 7059 substrates. The structural and electrical properties of the deposited films with different doping levels are studied. Relative variations in the structural properties were explained on the basis of structural factor calculations. The results show that the incorporation of fluorine atoms took place only at substitutional sites leading to an increase in free carrier concentration.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 38, Issues 8–9, August–September 2007, Pages 884–887
Journal: Microelectronics Journal - Volume 38, Issues 8–9, August–September 2007, Pages 884–887
نویسندگان
D. Zaouk, R. al Asmar, J. Podlecki, Y. Zaatar, A. Khoury, A. Foucaran,