کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5423766 | 1395801 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Direct low-energy electron beam nanolithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We describe here an alternative approach to direct low-energy electron beam nanolithography process with no conventional deposition of any resist or self-assembled monolayer. The method is based on direct formation of ultrathin dielectric layer on electron irradiated surface, without generation of structural defects. High-quality electron-induced patterns with lateral resolutions of about 10Â nm are demonstrated on SiO2 surface.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 603, Issue 16, 15 August 2009, Pages 2430-2433
Journal: Surface Science - Volume 603, Issue 16, 15 August 2009, Pages 2430-2433
نویسندگان
Daniel Aronov, Gil Rosenman,