کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5426805 | 1395906 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Si adhesion interlayer effects in hydrogen passivated Si/W soft X-ray multilayer mirrors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The use of hydrogen passivation of the silicon layers in Si/W soft X-ray reflective multilayer mirrors is investigated. Standard passivation, corresponding to Si:H/W structures, led to reduced growth properties of the W layers. The additional use of atomically thin Si adhesion layers, corresponding to Si:H/Si/W, led to improved growth and increased soft X-ray reflectivity. The effects taking place at the interfaces are analysed by bright field planar TEM and in situ X-ray reflectivity, and are described in terms of interface and surface energies, with quantitatively analysis of intermixing, materials density, and geometrical optical effects.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 600, Issue 6, 15 March 2006, Pages 1405-1408
Journal: Surface Science - Volume 600, Issue 6, 15 March 2006, Pages 1405-1408
نویسندگان
M.J.H. Kessels, J. Verhoeven, F.D. Tichelaar, F. Bijkerk,