کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
542694 | 871569 | 2006 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thermal conduction in sub-100 nm transistors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Heat conduction in integrated circuits spans length scales across several orders of magnitude: From the lattice spacing at a few Angstroms to the substrate thickness at hundreds of micrometers. The smaller length scale becomes increasingly important in devices with feature size well below 100 nm. This paper provides an overview of sub-continuum electro-thermal transport. We use the phonon Boltzmann transport equation to model heat conduction in the device and show that phonons emitted by hot electrons in the drain create a phonon hotspot. The resulting non-equilibrium leads to increased thermal resistance within the device. At the limits of scaling, the resistance is comparable to that due to the substrate and packaging.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 37, Issue 11, November 2006, Pages 1148–1157
Journal: Microelectronics Journal - Volume 37, Issue 11, November 2006, Pages 1148–1157
نویسندگان
S. Sinha, K.E. Goodson,