کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
545476 | 1450554 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A Modelisation of the temperature dependence of the Fowler–Nordheim current in EEPROM memories
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this paper, we suggest a new computation method to simulate the temperature behavior of Fowler–Nordheim tunneling current through the oxide of an EEPROM cell based on surface potential evaluation with temperature dependence. The main idea of this paper is to simulate the tunneling current temperature dependence with only Si–SiO2 barrier height and surface potential dependences with temperature. Parameters are experimentally extracted from large SOS capacitor measurements. So, final results of the programming window have shown comparing to simulations and measurements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 49, Issues 9–11, September–November 2009, Pages 1070–1073
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 49, Issues 9–11, September–November 2009, Pages 1070–1073
نویسندگان
M. Roca, R. Laffont, G. Micolau, F. Lalande, O. Pizzuto,