کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
545493 | 1450554 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Finite element analyses assisted Scanning Joule Expansion Microscopy on interconnects for failure analysis and reliability investigations
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Thermo-elastic properties on aluminum interconnects are characterized by Scanning Joule Expansion Microscopy and complementary finite element analyses. Temperature distributions can be obtained by the correlation of the three-dimensional thermal expansion vectors and the device structure. Vertical and lateral displacements give access to thermally induced strains, which is important for advanced failure analyses on degradation processes.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 49, Issues 9–11, September–November 2009, Pages 1165–1168
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 49, Issues 9–11, September–November 2009, Pages 1165–1168
نویسندگان
A.-K. Tiedemann, K. Kurz, M. Fakhri, R. Heiderhoff, J.C.H. Phang, L.J. Balk,