کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5462887 | 1517183 | 2017 | 18 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characteristics of IGZO/Ni/IGZO tri-layer films deposited by DC and RF magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Although the observed XRD pattern indicates that the IGZO films are amorphous structures, the surface roughness and electrical conductivity increased as the thickness of the Ni interlayer increased. In addition, the rough surface and enhanced carrier density of the films due to the Ni interlayer results in the decreased visible transmittance and low emissivity of the films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 205, 15 October 2017, Pages 122-125
Journal: Materials Letters - Volume 205, 15 October 2017, Pages 122-125
نویسندگان
Young-Hwan Song, Tae-Young Eom, Sung-Bo Heo, Joo-Yong Cheon, Byung-Chul Cha, Daeil Kim,