کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5464578 | 1517561 | 2017 | 43 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The influence of thermal annealing on the structural, optical and electrical properties of AZO thin films deposited by magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: The influence of thermal annealing on the structural, optical and electrical properties of AZO thin films deposited by magnetron sputtering The influence of thermal annealing on the structural, optical and electrical properties of AZO thin films deposited by magnetron sputtering](/preview/png/5464578.png)
چکیده انگلیسی
The activation energy for defect annihilation was estimated to be about 1Â eV and corresponds to the diffusion of interstitial atoms with the annihilation of vacancies. The concentration of free carriers increases due to the activation of the dopants that act as shallow donors.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 321, 15 July 2017, Pages 292-299
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 321, 15 July 2017, Pages 292-299
نویسندگان
Daniel Meljanac, Krunoslav JuraiÄ, Vilko MandiÄ, Hrvoje SkenderoviÄ, Sigrid Bernstorff, Jasper R. Plaisier, Ana Å antiÄ, Andreja GajoviÄ, Branko Å antiÄ, Davor Gracin,