کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5464645 | 1517556 | 2017 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Study of the effect of RF-power and process pressure on the morphology of copper and titanium sputtered by ICIS
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Study of the effect of RF-power and process pressure on the morphology of copper and titanium sputtered by ICIS Study of the effect of RF-power and process pressure on the morphology of copper and titanium sputtered by ICIS](/preview/png/5464645.png)
چکیده انگلیسی
Titanium morphology does not change with power or pressure. The deposition rate is lower than predicted by the differences in sputtering yields at 68 nm hâ 1 for a pressure of 6 Pa.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 327, 25 October 2017, Pages 200-206
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 327, 25 October 2017, Pages 200-206
نویسندگان
Daniel A.L. Loch, Arutiun P. Ehiasarian,