کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
546656 | 1450489 | 2007 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling and fabrication of a microelectromechanical microwave switch
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A microelectromechanical microwave switch manufactured by using a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) post-process has been implemented. An equivalent circuit model is proposed to analyze the performance of the microwave switch. The components of the microwave switch consist of a coplanar waveguide (CPW), a suspended membrane and supported springs. The post-process requires only one wet etching to etch the sacrificial layer, and to release the suspended structures. Experimental results show that the switch has an insertion loss of −2 dB at 50 GHz and an isolation of −15 dB at 50 GHz. The driving voltage of the switch approximates to 19 V.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 38, Issues 4–5, April–May 2007, Pages 519–524
Journal: Microelectronics Journal - Volume 38, Issues 4–5, April–May 2007, Pages 519–524
نویسندگان
Ching-Liang Dai, Heng-Ming Hsu, Ming-Chang Tsai, Ming-Ming Hsieh, Ming-Wei Chang,