کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5466759 1518300 2017 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Comment on, “On the influence of the electron dose-rate on the HRTEM image contrast”, by Juri Barthel, Markus Lentzen, Andreas Thust, ULTRAM12246 (2016), http://dx.doi.org/10.1016/j.ultramic.2016.11.016
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Comment on, “On the influence of the electron dose-rate on the HRTEM image contrast”, by Juri Barthel, Markus Lentzen, Andreas Thust, ULTRAM12246 (2016), http://dx.doi.org/10.1016/j.ultramic.2016.11.016
چکیده انگلیسی

- Typical electron dose rates that are used to capture single high resolution images induce atom (column) displacements that greatly exceed the average atom displacements  calculated from Debye-Waller factors at room temperature.
- The Born-Oppenheimer breaks down during the typical acquisition of high resolution images with beam current densities that greatly exceed 1000 e/Å2s.
- A control of electron beam-sample interactions mandates reducing beam current densities down to single electrons/Å2s.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Ultramicroscopy - Volume 179, August 2017, Pages 108-112
نویسندگان
, , , , , , ,