کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5466759 | 1518300 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Comment on, “On the influence of the electron dose-rate on the HRTEM image contrast”, by Juri Barthel, Markus Lentzen, Andreas Thust, ULTRAM12246 (2016), http://dx.doi.org/10.1016/j.ultramic.2016.11.016
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
- Typical electron dose rates that are used to capture single high resolution images induce atom (column) displacements that greatly exceed the average atom displacements  calculated from Debye-Waller factors at room temperature.
- The Born-Oppenheimer breaks down during the typical acquisition of high resolution images with beam current densities that greatly exceed 1000Â e/Ã 2s.
- A control of electron beam-sample interactions mandates reducing beam current densities down to single electrons/Ã 2s.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Ultramicroscopy - Volume 179, August 2017, Pages 108-112
Journal: Ultramicroscopy - Volume 179, August 2017, Pages 108-112
نویسندگان
C. Kisielowski, H.A. Calderon, F.R. Chen, S. Helveg, J.R. Jinschek, P. Specht, D. Van Dyck,