کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5477279 | 1399217 | 2016 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic layer deposition of yttria-stabilized zirconia thin films for enhanced reactivity and stability of solid oxide fuel cells
ترجمه فارسی عنوان
رسوب لایه اتمی فیلمهای نازک زیرکونیک تثبیت کننده ییتی برای افزایش بازدهی و پایداری سلول های سوختی اکسید جامد
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی (عمومی)
چکیده انگلیسی
We report the advantages of atomic layer deposition (ALD) for the fabrication of yttria-stabilized zirconia (YSZ) electrolyte. The reactivity and stability of anodic aluminum oxide (AAO)-based thin-film solid oxide fuel cells (SOFCs) are improved by applying ALD YSZ electrolyte. The fuel cell fabricated by ALD shows a peak power density of 154.6 mW cmâ2 at 450 °C, whereas the fuel cell fabricated by sputtering demonstrates a peak power density of 66.2 mW cmâ2. The amorphous and nanogranular microstructure of the ALD YSZ film is ascribed for a significant improvement in the cathodic reactivity of the AAO-based thin-film fuel cells. Moreover, the smooth and uniform surface of the ALD YSZ electrolytes mitigates the agglomeration of the Pt cathode layer, and thus the thermal stability of the thin-film fuel cell is remarkably improved at 450 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Energy - Volume 116, Part 1, 1 December 2016, Pages 170-176
Journal: Energy - Volume 116, Part 1, 1 December 2016, Pages 170-176
نویسندگان
Joonho Park, Yeageun Lee, Ikwhang Chang, Gu Young Cho, Sanghoon Ji, Wonyoung Lee, Suk Won Cha,