کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
563082 | 875469 | 2009 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Defect detection in patterned wafers using multichannel Scanning Electron Microscope
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
پردازش سیگنال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Recent computational methods of wafer defect detection often inspect Scanning Electron Microscope (SEM) images of the wafer. In this paper, we propose a kernel-based approach to multichannel defect detection, which relies on simultaneous acquisition of three different images for each sample in a SEM tool. The reconstruction of a source patch from reference patches in the three channels is constrained by a similarity criterion across the three SEM images. The improved performance of the proposed algorithm is demonstrated, compared to a single-channel kernel-based defect detection method.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Signal Processing - Volume 89, Issue 8, August 2009, Pages 1511–1520
Journal: Signal Processing - Volume 89, Issue 8, August 2009, Pages 1511–1520
نویسندگان
Maria Zontak, Israel Cohen,