کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6944798 | 1450449 | 2018 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of etch angles on cell characteristics in 3D NAND flash memory
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We confirmed that critical dimensions should be well-controlled to minimize the etch angles, which provide significant on-current reduction and program characteristics distortion. These results led to an appropriated standard to implement high stack 3D NAND flash memory.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 79, September 2018, Pages 1-6
Journal: Microelectronics Journal - Volume 79, September 2018, Pages 1-6
نویسندگان
Young-Taek Oh, Kyu-Beom Kim, Sang-Hoon Shin, Hahng Sim, Nguyen Van Toan, Takahito Ono, Yun-Heub Song,