کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
702091 | 891072 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of atomic bonds on electrical property of boron carbon nitride films synthesized by remote plasma-assisted chemical vapor deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Influence of atomic bonds on electrical property of boron carbon nitride films synthesized by remote plasma-assisted chemical vapor deposition Influence of atomic bonds on electrical property of boron carbon nitride films synthesized by remote plasma-assisted chemical vapor deposition](/preview/png/702091.png)
چکیده انگلیسی
Boron carbon nitride (BCN) films are synthesized with various growth conditions by remote plasma-assisted chemical vapor deposition method. The chemical bonding in the BCN film is modified by the growth condition. Optical and electrical properties are investigated for BCN films with various chemical bonding. Electrical characterization is carried out for the BCN films which have the same bandgap energy and different C composition ratio and have the same C composition ratio and different bandgap energy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 19, Issue 12, December 2010, Pages 1441–1445
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 19, Issue 12, December 2010, Pages 1441–1445
نویسندگان
Hiroshi Sota, Chiharu Kimura, Hidemitsu Aoki, Takashi Sugino,