کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7111262 | 1460767 | 2016 | 14 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A comparative study of direct current magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering processes for CNx thin film growth with different inert gases
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: A comparative study of direct current magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering processes for CNx thin film growth with different inert gases A comparative study of direct current magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering processes for CNx thin film growth with different inert gases](/preview/png/7111262.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 64, April 2016, Pages 13-26
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 64, April 2016, Pages 13-26
نویسندگان
Susann Schmidt, Zsolt Czigány, Jonas Wissting, Grzegorz Greczynski, Erik Janzén, Jens Jensen, Ivan Gueorguiev Ivanov, Lars Hultman,