کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7111262 1460767 2016 14 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A comparative study of direct current magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering processes for CNx thin film growth with different inert gases
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A comparative study of direct current magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering processes for CNx thin film growth with different inert gases
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 64, April 2016, Pages 13-26
نویسندگان
, , , , , , , ,