کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7111391 | 1460768 | 2016 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasma post-treatment process for enhancing electron field emission properties of ultrananocrystalline diamond films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Plasma post-treatment process for enhancing electron field emission properties of ultrananocrystalline diamond films Plasma post-treatment process for enhancing electron field emission properties of ultrananocrystalline diamond films](/preview/png/7111391.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 63, March 2016, Pages 197-204
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 63, March 2016, Pages 197-204
نویسندگان
Chien-Jui Yeh, Hsin-Tzer Chang, Keh-Chyang Leou, I-Nan Lin,