The efficiency of inspection based on out of control detection in wafer fabrication

این کار روشی را برای مدلسازی کارایی بازرسی در خط تولید نیمه رسانای ویفر ارائه می دهد. واضح است که کیفیت بهبود یافته باعث افزایش تولید و افزایش درآمد حاصل از فروش می شود. با این حال، این نیز نیاز به افزایش تشخیص گسل فعال با قابلیت بازرسی بیشتر و در نتیجه هزینه های بالاتر. این کار، بازدهی بازرسی را با ارزیابی سود حاصل از خروجی کیفیت در برابر هزینه مربوطه مورد بررسی قرار می دهد. این بر اساس یک مدل تولید تهیه ویفر ساخته شده است، در حالیکه تعداد زیادی از ویفر برای بازرسی پس از پردازش آنها با ماشین ها نمونه برداری می شوند. بازرسی از عملکرد کنترل ناشی می شود و باعث تعمیر دستگاه می شود. بنابراین، عملکرد کیفی به عنوان عملکرد بازرسی و طول مدت پاسخ بهبود می یابد. بر اساس بهره وری پارتو، منحنی کارایی بازرسی توسعه یافته است که نشان دهنده رابطه بین عملکرد کیفی و ظرفیت بازرسی است. این نشان می دهد که خروجی کیفیت، تحت تاثیر کاهش عملکرد خارج از کنترل، با سرعت بازرسی ظرفیت بازرسی افزایش می یابد. علاوه بر این، خروجی کیفیت افزایشی و هزینه بازرسی افزایشی، عامل کارآمدترین کار را تعیین می کنند. این نکته را نشان می دهد ظرفیت بازرسی، میزان بازرسی و عملکرد کیفی در نتیجه. نوآوری این کار در ارائه یک مدل کمی برای طراحی بازده بازرسی در تولید ویفر است.