کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7734928 1497957 2015 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Finite element analysis of lithium insertion-induced expansion of a silicon thin film on a rigid substrate under potentiostatic operation
ترجمه فارسی عنوان
تجزیه و تحلیل عنصر محدود از گسترش لیتیوم ناشی از یک فیلم نازک سیلیکون بر روی یک بستر سفت و سخت تحت عملیات پتانسیواستاتیک
کلمات کلیدی
تجزیه و تحلیل عنصر محدود، الکترود فیلم نازک، اختلاط استرس، انسداد ناشی از گسترش، تغییر شکل الاستیک-پلاستیک
ترجمه چکیده
استرس ناشی از انتشار و حجم حجمی تحت عمل پتانسیواستاتیک با استفاده از یک مدل عنصر محدودی محور با توجه به تولید پلاستیک، اثرات کوپلینگ بین انتشار و استرس، انتشار از سطح لبه و وابستگی غلظت خواص مواد مورد بررسی قرار گرفته است. تفاوت های قابل توجه در تنش ها، جابجایی ها و انرژی های شکستگی بین مواد الاستیک و الاستیسیته پلاستیکی وجود دارد. پلاستیسیتی براساس معیار فون مایسس تاثیری بر تغییرات غلظت ندارد. مناطق بحرانی برای شکستن سطح لبه و مناطق در نزدیکی لبه ها در هر دو سطح بالا و رابط است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی الکتروشیمی
چکیده انگلیسی
Diffusion-induced stress and volumetric expansion under potentiostatic operation are investigated with an axisymmetric finite element model taking account of plastic yielding, coupling effects between diffusion and stress, diffusion from the edge surface, and concentration dependence of material properties. Significant differences on stresses, displacements, and fracture energies between purely elastic and elastic-plastic materials are found. Plasticity based on von-Mises criterion has no effect on concentration variation. The critical regions for fracture are the edge surface, and the regions near the edges on both the top surface and the interface.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Power Sources - Volume 275, 1 February 2015, Pages 760-768
نویسندگان
,