کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7835658 | 1503535 | 2018 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanowall formation by maskless wet-etching on a femtosecond laser irradiated silicon surface
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Nanowall formation by maskless wet-etching on a femtosecond laser irradiated silicon surface Nanowall formation by maskless wet-etching on a femtosecond laser irradiated silicon surface](/preview/png/7835658.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 437, 15 April 2018, Pages 190-194
Journal: Applied Surface Science - Volume 437, 15 April 2018, Pages 190-194
نویسندگان
Siwoo Lee, Kukhyun Jo, Hee-sung Keum, Sangmin Chae, Yonghyeon Kim, Jiyeon Choi, Hyun Hwi Lee, Hyo Jung Kim,