کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7836306 | 1503539 | 2018 | 22 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A comparative study on the direct deposition of μc-Si:H and plasma-induced recrystallization of a-Si:H: Insight into Si crystallization in a high-density plasma
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 433, 1 March 2018, Pages 285-291
Journal: Applied Surface Science - Volume 433, 1 March 2018, Pages 285-291
نویسندگان
H.P. Zhou, M. Xu, S. Xu, Y.Y. Feng, L.X. Xu, D.Y. Wei, S.Q. Xiao,