کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7836306 1503539 2018 22 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A comparative study on the direct deposition of μc-Si:H and plasma-induced recrystallization of a-Si:H: Insight into Si crystallization in a high-density plasma
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A comparative study on the direct deposition of μc-Si:H and plasma-induced recrystallization of a-Si:H: Insight into Si crystallization in a high-density plasma
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 433, 1 March 2018, Pages 285-291
نویسندگان
, , , , , , ,