کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7913101 | 1510902 | 2015 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Linking diffusion kinetics to defect electronic structure in metal oxides: Charge-dependent vacancy diffusion in alumina
ترجمه فارسی عنوان
پیوند دادن سینتیک های انتشار به ساختار الکترونیکی نقص در اکسید های فلزی: انتشار واکنش وابسته به بار در آلومینا
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
چکیده انگلیسی
We study the diffusion of charged vacancies in α-Al2O3 crystal using the first-principles calculation method. We predict that the migration energy for vacancy diffusion strongly depends on the charge state of the vacancy involved. Importantly, we reveal that this charge-dependent vacancy diffusion is directly related to the electron occupancy and energy level change of the defect states of the charged vacancy in alumina. Hence, our study establishes a direct link between the diffusion kinetics and electronic structure of metal oxides.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 101, May 2015, Pages 20-23
Journal: Scripta Materialia - Volume 101, May 2015, Pages 20-23
نویسندگان
Yinkai Lei, Guofeng Wang,