کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7927213 | 1512540 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A novel optical lithography implement utilizing third harmonic generation via metallic tip enhanced near field
ترجمه فارسی عنوان
یک لیتوگرافی اپتیک نوین با استفاده از نسل سوم هارمونیک از طریق نوک متال افزایش می یابد در نزدیکی میدان
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
پلاسمون سطحی، لیتوگرافی نوری، نسل سوم هارمونیک، افزایش نکته،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
چکیده انگلیسی
A novel scheme for near-field optical lithography utilizing a metallic tip illuminated by femtosecond laser pulses with proper polarization has been presented. The strongly enhanced near field at the metallic tip offers a localized excitation source for the third harmonic generation in the nonlinear material. The generated third harmonic via excitation of nonlinear photoresist provides good exposure contrast due to the cubic intensity dependence. The spatial resolution of this novel lithography scheme is shown to be better than that of the conventional lithography technique.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optics Communications - Volume 383, 15 January 2017, Pages 418-422
Journal: Optics Communications - Volume 383, 15 January 2017, Pages 418-422
نویسندگان
Hui Zhang, Ning Zhu, Ting Mei, Miao He, Hao Li, Zhenshi Chen,