کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7987100 | 1515170 | 2013 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
PECVD based silicon oxynitride thin films for nano photonic on chip interconnects applications
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
دانش مواد (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: PECVD based silicon oxynitride thin films for nano photonic on chip interconnects applications PECVD based silicon oxynitride thin films for nano photonic on chip interconnects applications](/preview/png/7987100.png)
چکیده انگلیسی
⺠PDA treated PECVD SiOxNy thin films for nano optic on chip application. ⺠AFM result reveals the variation of roughness after PDA. ⺠Raman and FTIR result demonstrates the variation in crystallite and chemical bonding. ⺠The significant shift in PL spectrum indicate the change in cluster size.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Micron - Volume 44, January 2013, Pages 339-346
Journal: Micron - Volume 44, January 2013, Pages 339-346
نویسندگان
Satinder K. Sharma, Sumit Barthwal, Vikram Singh, Anuj Kumar, Prabhat K. Dwivedi, B. Prasad, Dinesh Kumar,