کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7987706 | 1515414 | 2016 | 13 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth of semiconductor silicon crystals
ترجمه فارسی عنوان
رشد بلورهای سیلیکون نیمه رسانا
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
سیلیکون، همرفت، کاستی، ناخالصی، فشار،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
دانش مواد (عمومی)
چکیده انگلیسی
This paper focuses on the recent developments in Czochralski (CZ) crystal growth of silicon for large-scale integrated circuits (LSIs) and multi-crystalline silicon growth using a directional solidification method for solar cells. Growth of silicon crystals by the CZ method currently allows the growth of high-quality crystals that satisfy the device requirements of LSIs or power devices for electric cars. This paper covers how to obtain high-quality crystals with low impurity content and few point defects. It also covers the directional solidification method, which yields crystals with medium conversion efficiency for photovoltaic applications. We discuss the defects and impurities that degrade the efficiency and the steps to overcome these problems.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Progress in Crystal Growth and Characterization of Materials - Volume 62, Issue 2, June 2016, Pages 273-285
Journal: Progress in Crystal Growth and Characterization of Materials - Volume 62, Issue 2, June 2016, Pages 273-285
نویسندگان
Koichi Kakimoto, Bing Gao, Xin Liu, Satoshi Nakano,