کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
801271 | 904162 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dislocation–interface interaction in nanoscale fcc metallic bilayers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی مکانیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Dislocation–interface interactions are investigated in a Ni–Cu bilayer using molecular mechanics simulations. Nanoindentation model is used to generate dislocations in the top Ni layer and study their propagation through coherent (1 1 1) fcc interface into Cu. Although dislocations do propagate through, the interface acts as a strong barrier to gliding dislocations and contributes considerably to the overall strain hardening of the nanolayered material. Mechanisms of dislocation–interface interactions are analyzed. In particular, spreading of a dissociated dislocation core at the interface and interfacial stacking fault formation are investigated along with their effect on the material strengthening.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Mechanics Research Communications - Volume 37, Issue 3, April 2010, Pages 315–319
Journal: Mechanics Research Communications - Volume 37, Issue 3, April 2010, Pages 315–319
نویسندگان
Shuai Shao, Sergey N. Medyanik,