کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8022289 | 1517282 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Photoconductive characteristics of ZnO: Al network films sputter-deposited at different deposition temperatures
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
50Â nm-thick ZnO: Al network films were sputter-deposited on nanochannel Al2O3 substrates at 300Â K, 423Â K and 623Â K. A photoconduction of the network films was measured by using a metal-semiconductor-metal planar configuration with Ag contact electrodes. Both the dark current and the photocurrent increase linearly with the applied voltage, meaning an ohmic contact between ZnO: Al network film and Ag electrode. The photocurrent of the network films increases with increasing deposition temperature. The network films show a slow photo-response. The rising process time constant is almost independent of deposition temperature. The photosensitivity of the network films decreases with increasing deposition temperature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 106, 1 September 2013, Pages 218-221
Journal: Materials Letters - Volume 106, 1 September 2013, Pages 218-221
نویسندگان
Jinping Liu, Hong Qiu, Guoshou Zou, Bin Hu, Zhiwei Yang,