کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8024379 | 1517548 | 2018 | 13 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Towards high quality ITO coatings: The impact of nitrogen admixture in HiPIMS discharges
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The paper reports controlled deposition of optically transparent and electrically conductive ITO films prepared by a combination of rf (13.56Â MHz) and High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) systems without any post deposition thermal treatment/annealing. It is shown that (i) reactive admixture of N2 gas to the process and (ii) pressure in the deposition chamber enable to optimize optical properties of ITO films. Furthermore, the changes of electrical resistivity were observed, too. The variation of these ITO properties is attributed to change of crystalline structure measured by XRD methods.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 335, 15 February 2018, Pages 126-133
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 335, 15 February 2018, Pages 126-133
نویسندگان
Vitezslav Stranak, Robert Bogdanowicz, Petr Sezemsky, Harm Wulff, Angela Kruth, Mateusz Smietana, Jiri Kratochvil, Martin Cada, Zdenek Hubicka,