Status and challenges in electrical diagnostics of processing plasmas

پردازش خشک بر اساس پلاسما واکنشی، نیروی محرک اصلی برای صنعت میکرو و اخیرا نانو الکترونیک بود. هنگامی که با افزایش پیچیدگی پلاسما، روش های جدید تشخیصی برای اطمینان از کنترل فرایند مناسب در طی اچ، رسوب نازک فیلم، کاشت یون یا مراحل دیگر در تولید دستگاه ایجاد شده است. در این مقاله، برخی از روش های غیر متعارف توسعه یافته در دو دهه گذشته برای اندازه گیری پارامترهای پلاسما واکنشی از جمله روش تست تست، پروب های حرارتی و پروب های لنز پلاسما بررسی شده است. تشخیص یون منفی و آلودگی سطحی در پلاسما با درجه بالایی از آلودگی نیز مورد توجه قرار گرفته است.