کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8029711 | 1517648 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electric field assisted aerosol assisted chemical vapor deposition of nanostructured metal oxide thin films
ترجمه فارسی عنوان
اکسید کمک الکتریکی کمک به تخمیر بخار شیمیایی از ورق های نازک فلزی اکسید نانوساختار
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
ترجمه چکیده
فیلم های نازک دی اکسید وانادیوم با استفاده از یک روش الکتریکی جدید از روش تخلیه بخار شیمیایی بر پایه های سنسور شیشه ای و گاز تهیه شد. میدان های الکتریکی در طی واکنش رسوب بوسیله استفاده از اختلاف پتانسیل الکترود های دوجداره سنسور سنسور گاز تولید می شود و یا خرید میدان الکتریکی بین دو پوشش شیشهای تحت پوشش اکسید شفاف انجام می شود. فیلم های سپرده شده با استفاده از میکروسکوپ الکترونی اسکن، طیف سنجی رامان، پراش اشعه ایکس، میکروسکوپ نیروی اتمی و اندازه گیری زاویه تماس مورد بررسی قرار گرفت. مشخص شد که استفاده از میدان الکتریکی موجب تغییرات زیادی در میکروساختار فیلم، گرایش ترجیحی و تغییرات نرخ رشد فیلم شده است. این منجر به تغییرات قابل توجهی در خواص مواد مانند افزایش زبری سطح و افزایش رفتار خیس شدن شد. بخار بخار شیمیایی با استفاده از الکتریسیته حاکی از وعده بسیار خوبی به عنوان یک روش برای ساخت نانو ساختار و خواص فیلم های نازک فلز است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Thin films of vanadium dioxide were deposited using a novel electric field assisted chemical vapor deposition methodology onto glass and gas sensor substrates. Electric fields were generated during the deposition reaction by applying a potential difference across the inter-digitated electrodes of the gas sensor substrate or buy applying an electric field between two transparent conducting oxide coated glass substrates. The deposited films were analyzed and characterized using scanning electron microscopy, Raman spectroscopy, X-ray diffraction, atomic force microscopy and contact angle measurements. It was found that applying an electric field led to large changes in film microstructure, preferential orientation and changes in the film growth rate. This led to significant changes in materials properties such as increased surface roughness and enhanced wetting behaviour. Electric field-assisted chemical vapour deposition shows great promise as a method for nano-structuring and tailoring the properties of metal oxide thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 230, 15 September 2013, Pages 28-32
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 230, 15 September 2013, Pages 28-32
نویسندگان
Michael E.A. Warwick, Russell Binions,