کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8030107 | 1517661 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Chemical vapor deposition of amorphous silicon carbide thin films on metal surfaces using monomethylsilane gas at low temperatures
ترجمه فارسی عنوان
تخمیر بخار شیمیایی فیلمهای نازک سیلیکون کاربید در سطوح فلزی با استفاده از گاز مونوتیلیسیلان در دماهای پایین
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
سیلیکون کاربید، منومیتیلسیلان، رسوبات بخار شیمیایی، دمای اتاق،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
⺠The SiC thin film formation process entirely at low temperature was developed. ⺠A SiC CVD film was formed on aluminum and stainless steel substrate surface. ⺠A reactive substrate surface was prepared using argon plasma or silicon interlayer. ⺠The precursor was monomethylsilane gas.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 217, 25 February 2013, Pages 88-93
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 217, 25 February 2013, Pages 88-93
نویسندگان
Hitoshi Habuka, Masaki Tsuji,