کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8030536 | 1517664 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of gas temperature on the structural and optoelectronic properties of a-Si:H thin films deposited by PECVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The Tg in PECVD was confirmed to be an important parameter. ⺠Tg limits the incorporation of hydrogen bonded in the shape of polyhydrides. ⺠The enhancements of conductivity of samples depend strongly on their structures. ⺠The grown thin films have been examined using multiple characterization techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 214, 15 January 2013, Pages 131-137
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 214, 15 January 2013, Pages 131-137
نویسندگان
Jian He, Chong Wang, Wei Li, Kang-cheng Qi, Ya-Dong Jiang,