کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8030536 1517664 2013 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of gas temperature on the structural and optoelectronic properties of a-Si:H thin films deposited by PECVD
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Effect of gas temperature on the structural and optoelectronic properties of a-Si:H thin films deposited by PECVD
چکیده انگلیسی
► The Tg in PECVD was confirmed to be an important parameter. ► Tg limits the incorporation of hydrogen bonded in the shape of polyhydrides. ► The enhancements of conductivity of samples depend strongly on their structures. ► The grown thin films have been examined using multiple characterization techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 214, 15 January 2013, Pages 131-137
نویسندگان
, , , , ,