کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8031029 1517671 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Low transition-temperature characteristic in VOx films grown on Si3N4/Glass substrates
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Low transition-temperature characteristic in VOx films grown on Si3N4/Glass substrates
چکیده انگلیسی
► VOx thin films were fabricated with different process parameters. ► The films all show excellent phase transition properties around room temperature. ► The samples were composed of different vanadium oxides owing to the different process parameters.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 207, 25 August 2012, Pages 130-134
نویسندگان
, , , , , ,