کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8031389 | 1517673 | 2012 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of mid-frequency discharge assistance on dual-high power impulse magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Hybrid system combining dual-HiPIMS and MF discharges was developed. ⺠Combination of HiPIMS and MF discharges allows significant reduction of pressure. ⺠MF discharges causes pre-ionization effect which supports HiPIMS re-ignition. ⺠High ion energy (~ 15 eV) and efficient ionization of sputtered atoms were observed. ⺠Energy of incoming particles influences growth of multilayer-structured Ti-Cu film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issues 11â12, 15 February 2012, Pages 2801-2809
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issues 11â12, 15 February 2012, Pages 2801-2809
نویسندگان
Vitezslav Stranak, Steffen Drache, Robert Bogdanowicz, Harm Wulff, Ann-Pierra Herrendorf, Zdenek Hubicka, Martin Cada, Milan Tichy, Rainer Hippler,