کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8955274 1646070 2019 15 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Molecular analysis of additives and impurities accumulated on copper electrodeposited layer by time-of-flight secondary ion mass spectrometry
ترجمه فارسی عنوان
تجزیه و تحلیل مولکولی مواد افزودنی و ناخالصیهای انباشته شده بر روی لایه الکترودهایی مس، توسط طیف سنجی جرمی ثانویه زمان پرواز
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش مقاله
تجزیه و تحلیل مولکولی مواد افزودنی و ناخالصیهای انباشته شده بر روی لایه الکترودهایی مس، توسط طیف سنجی جرمی ثانویه زمان پرواز
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 463, 1 January 2019, Pages 412-426
نویسندگان
, , ,