کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9566812 | 1503712 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Mesoporous silica thin films prepared by argon plasma treatment of sol-gel-derived precursor
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Argon plasma is used to generate the mesoporous silica thin films from sol-gel-derived precursor. Poly(ethylene glycol) (PEG, MWÂ =Â 400) is employed as the template, i.e., the pore-directing agent as well as the binder. The influence of the plasma parameters (plasma power and processing time) on the mesoscopic properties of silica films are investigated by scanning electron microscopy (SEM), FT-IR, low-angle X-ray scattering (SAXS), and nitrogen adsorption isotherm. It is concluded that the plasma treatment is a promising way to remove organic templates and generate mesoporous thin films. Compared to the conventional thermal calcination methods, the plasma treatment provides a promising low-temperature, low-cost and time-saving preparation process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 245, Issues 1â4, 30 May 2005, Pages 304-309
Journal: Applied Surface Science - Volume 245, Issues 1â4, 30 May 2005, Pages 304-309
نویسندگان
Jian Zhang, Alagappan Palaniappan, Xiaodi Su, Francis E.H. Tay,