کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9567346 | 1503713 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth and morphological properties of β-FeSi2 layers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
β-FeSi2 layers were grown on Si(1 1 1) substrates by reactive deposition epitaxy under the presence of an Sb flux, and the morphological properties of the layers were investigated. The microscopic observations showed that the layer roughness, Ra, was 30-100 nm for the layers with a thickness of 44-540 nm. It has been also demonstrated that the surface roughness can be well estimated by the spectroscopic ellipsometry (SE) measurements using an effective medium approximation (EMA).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 244, Issues 1â4, 15 May 2005, Pages 326-329
Journal: Applied Surface Science - Volume 244, Issues 1â4, 15 May 2005, Pages 326-329
نویسندگان
S. Tanaka, A. Yamamoto, S. Makiuchi, T. Matsuyama, M. Rebien, W. Henrion, H. Tatsuoka, M. Tanaka, Z.-Q. Liu, H. Kuwabara,