کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9568597 | 1503714 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The deepness enhancing of an AFM-tip induced surface nanomodification
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The novel method of the semiconductor nanostructuring (TINE&MEMO) has been developed on the base of the simultaneous AFM-tip induced local anodic oxidation and mechanical modification of the surface under the applying of advanced electric potentials. The TINE&MEMO-based technology allows obtaining the principle new scale of the depth up to 100ânm for the nanostructure fabrication with a low aspect relation between the width and deepness. The developed nanoscale AFM-lithography has been clearly demonstrated on titanium, gallium arsenide and silicon substrates for creation of electronic nanodevices.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 243, Issues 1â4, 30 April 2005, Pages 138-142
Journal: Applied Surface Science - Volume 243, Issues 1â4, 30 April 2005, Pages 138-142
نویسندگان
D.V. Sheglov, A.V. Latyshev, A.L. Aseev,