کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9594563 | 1507969 | 2005 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of strain field in nitrogen-mediated Co film growth on Cu(0Â 0Â 1): Segregation and electronic structure change
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
NanopatterningIon implantation methodsNitrogen atom - اتم نیتروژنSurface stress - استرس سطحیEpitaxy - اپیتاکسیSurface segregation - جداسازی سطحیGrowth - رشدMetal–metal magnetic thin film structures - سازه های فلزی نازک مغناطیسی فلزیThin film structures - سازه های فیلم نازکX-ray photoelectron spectroscopy - طیف سنجی فوتوالکتر اشعه ایکسModels of surface kinetics - مدل های سینتیک سطحCopper - مسScanning tunneling microscopy - میکروسکوپ تونلی روبشی Low energy electron diffraction (LEED) - پراش الکترونی پایین (LEED)Cobalt - کبالتSurface tension - کشش سطحی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Growth modes of Co thin films on the both N-saturated and partially N-adsorbed Cu(0Â 0Â 1) surfaces are studied in detail. From results of the STM and XPS measurements, segregation of N atoms depending on the Co island size is concluded. This new type of atom segregation is explained by means of a lattice strain of the substrate due to the small Co island formation. A novel core-level shift of NÂ 1s during the Co film growth is also reported. A possible influence of the lattice strain to the electronic structure of the surfactant is discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 590, Issues 2â3, 1 October 2005, Pages 138-145
Journal: Surface Science - Volume 590, Issues 2â3, 1 October 2005, Pages 138-145
نویسندگان
Daiichiro Sekiba, Shunsuke Doi, Kan Nakatsuji, Fumio Komori,