کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9594867 | 1507977 | 2005 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ion-induced interface layer formation in W/Si and WRe/Si multilayers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Ion-induced interface layer formation in W/Si and WRe/Si multilayers Ion-induced interface layer formation in W/Si and WRe/Si multilayers](/preview/png/9594867.png)
چکیده انگلیسی
The effects of ion-polishing of the metal layers in W/Si and WRe/Si soft X-ray multilayer mirrors has been investigated, essentially distinguishing between effects at the layer directly treated by the ions, and effects at the interface underneath this layer in the stack. Planar transmission electron microscopy (TEM) and calibrated cross-sectional TEM showed counterbalancing effects, in the case of W/Si systems leading to an optimal soft X-ray reflectivity at 100Â eV ion energy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 582, Issues 1â3, 10 May 2005, Pages 227-234
Journal: Surface Science - Volume 582, Issues 1â3, 10 May 2005, Pages 227-234
نویسندگان
M.J.H. Kessels, J. Verhoeven, F.D. Tichelaar, F. Bijkerk,